应用需求与挑战
在掩模版检测中，任何细微缺陷都可能在光刻过程中被成倍放大，影响整个芯片批次的质量。相机不仅要具备极致的分辨率和精细的对比度还原能力，还需要适配深紫外甚至极紫外波段的光学成像，以满足特殊检测环境的需求。同时，掩模检测要求高度稳定和长期一致的性能，确保检测结果的可靠性和可重复性。
典型相机推荐
Gemini 8KTDI
深紫外高速TDI-sCMOS相机
193 nm 位于 DUV（100–200 nm）深紫外波段，是光刻环节的核心光源（ArF 准分子激光），在 20 nm 及更先进工艺中发挥着关键作用。在检测环节，193 nm 被广泛用于掩膜版缺陷检测与光刻胶图形验证，可揭示亚微米甚至纳米级缺陷，从而实现高精度工艺监控。
Gemini 8KTDI在 193 nm 波段的响应能力已通过相关实验室验证。凭借 18 年在高信噪比成像、高速数据传输以及特殊波长极限探测技术的深厚积累，鑫图成为国内极少数能够支持 193 nm 深紫外（DUV）高光子能量科研与检测应用的专业相机供应商。
2025-09-12
